工业级氢氟酸

　　英文名 hydrofluoric acid，分子式HF，分子量 20. 01。为无色透明液体 ，相对密度1. 15～1 . 18，沸点 112 . 2 ℃，在空气中发烟 ，有刺激性气味 ，剧毒。能与一般金属、 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ，生成各种盐类。腐蚀性极强 ，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。易溶于水、醇 ，难溶于其他有机溶剂。高纯氢氟酸为强酸性清洗、 腐蚀剂 ，可与硝酸、冰醋酸、 双氧水及氢氧化铵等配置使用。

因各微电子生产企业对电子级氢氟酸要求的标准不同，可将其划分为四个档次：

1 低档产品，用于>1.2μmIC工艺技术的制作；

2 中低档产品，适用于0.8～1.2μmIC工艺技术的制作；

3 中高档产品，适用于0.2～0.6μmIC工艺技术的制作；

4 高档产品（UPss），适用于0.09～0.2μm和<0.09μmIC工艺技术的制作。

用途

应用于集成电路 ( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀 ,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 ,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业， 其他方面用量较少。